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凯发平台PA-300-XL

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凯发平台PA-300-XL是日本Photonic lattice公司傾力打造的雙折射/應力測量儀,PA係列測量雙折射測量範圍達0-130nm,可以測量的樣品範圍從幾個毫米到近500毫米。PA係列凯发平台以其技術的光子晶體偏光陣列片,*的雙折射算法設計製造,得到每片樣品僅需幾秒鍾的測量能力,使其成為業內,特別是工業界雙折射測量/應力測量的選擇。

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凯发平台PA-300-XL主要特點

  • 操作簡單,測量速度可以快到3秒。

  • 視野範圍內可一次測量,測量範圍廣。

  • 更直觀的全麵讀取數據,無遺漏數據點。

  • 具有多種分析功能和測量結果的比較。

  • 維護簡單,不含旋轉光學濾片的機構。

  • 高達2056x2464像素的偏振相機。

凯发平台PA-300-XL應用領域:

  • 光學鏡片

  • 智能手機玻璃基板

  • A4紙尺寸的樣品


技術參數:

   項次           項目            具體參數
1 輸出項目 相位差【nm】,軸方向【°】,相位差與應力換算(選配)【MPa】

2測量波長520nm

3雙折射測量範圍0-130nm

4測量小分辨率0.001nm

5測量重複精度<1nm(西格瑪)

6視野尺寸40x48mm到240x320mm(標準)

7選配鏡頭視野不適用

8選配功能    實時解析軟件,鏡片解析軟件,數據處理軟件,實現外部控製


測量案例:
複印機鏡頭測量藍寶石測量單反相機鏡頭測量


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